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拓荊科技:2022年凈利潤同比預增381.85%至484.06%

來源:中證網(wǎng) 112401/29

訊(記者 宋維東)拓荊科技1月29日晚發(fā)布業(yè)績預告,公司預計2022年實現(xiàn)營業(yè)收入16.5億元至17.2億元,同比增長117.69%至126.92%;預計實現(xiàn)歸屬于上市公司股東的凈利潤3.3億元至4億元,同比增長381.85%至484.06

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訊(記者 宋維東)拓荊科技1月29日晚發(fā)布業(yè)績預告,公司預計2022年實現(xiàn)營業(yè)收入16.5億元至17.2億元,同比增長117.69%至126.92%;預計實現(xiàn)歸屬于上市公司股東的凈利潤3.3億元至4億元,同比增長381.85%至484.06%;預計實現(xiàn)扣非凈利潤1.6億元至1.9億元,同比實現(xiàn)扭虧為盈。

拓荊科技表示,報告期內(nèi),受益于國內(nèi)半導體行業(yè)良好的發(fā)展態(tài)勢,國內(nèi)半導體行業(yè)設備需求增加;同時,公司繼續(xù)加大產(chǎn)品研發(fā)投入,產(chǎn)品結構不斷優(yōu)化,產(chǎn)品競爭力持續(xù)增強,進一步拓展客戶群體,銷售訂單大幅增加,營業(yè)收入維持高增長趨勢。此外,在公司持續(xù)加大研發(fā)投入的情況下,期間費用率有所下降,規(guī)模效應驅動公司盈利水平提高,公司經(jīng)營業(yè)績實現(xiàn)較大幅度增長。

成立至今,拓荊科技一直專注于高端半導體薄膜設備的研發(fā)生產(chǎn),主要產(chǎn)品包括等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備、原子層沉積(ALD)設備和次常壓化學氣相沉積(SACVD)設備三個產(chǎn)品系列,已廣泛應用于國內(nèi)集成電路制造產(chǎn)線。

拓荊科技現(xiàn)已發(fā)展為國內(nèi)領先的高端半導體薄膜設備廠商,是目前國內(nèi)唯一一家產(chǎn)業(yè)化應用的集成電路PECVD、SACVD設備廠商,也是國內(nèi)領先的ALD設備廠商。公司產(chǎn)品的核心技術及關鍵性能指標均已達到國際先進水平。公司作為本土供應商,為客戶提供定制化產(chǎn)品,滿足客戶差異化需求,并提供及時、快速的售后服務,市場規(guī)模不斷擴大。

根據(jù)此前披露的信息,為進一步完善業(yè)務發(fā)展布局,拓荊科技擬出資設立全資子公司,該子公司將主要圍繞公司現(xiàn)有主營業(yè)務開展相關經(jīng)營活動。拓荊科技表示,該子公司的成立,是基于公司未來發(fā)展規(guī)劃考慮,促進未來發(fā)展戰(zhàn)略實施,圍繞主營業(yè)務不斷擴大規(guī)模,在高端半導體薄膜設備領域持續(xù)深耕,圍繞CVD技術做深做精,并不斷在細分領域內(nèi)拓展產(chǎn)品、工藝覆蓋面,增強盈利能力,提升公司綜合競爭力。

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