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在2月以來的震蕩行情中，有一個(gè)相對(duì)陌生的概念表現(xiàn)卻比較突出，走出了一波明顯的結(jié)構(gòu)性行情，它就是“光刻膠”！而在最近的新聞中，“光刻膠”露面的次數(shù)也不少——5月23日日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省發(fā)布出口貿(mào)易管制令征求意見稿結(jié)果，明確對(duì)6大類23項(xiàng)半導(dǎo)體設(shè)備限制出口，具體為3項(xiàng)清洗設(shè)備、11項(xiàng)成膜設(shè)備、1項(xiàng)熱處理設(shè)備、4項(xiàng)曝光設(shè)備、3項(xiàng)蝕刻設(shè)備、1項(xiàng)測(cè)試設(shè)備。
業(yè)內(nèi)分析稱，“日本此次禁運(yùn)的23種半導(dǎo)體設(shè)備中，熱處理、前道涂膠顯影設(shè)備、清洗、檢測(cè)等設(shè)備均有企業(yè)推出符合市場(chǎng)要求的產(chǎn)品，唯獨(dú)國(guó)產(chǎn)高端光刻膠屬于空白領(lǐng)域，在此背景下，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈正謀求合力突破高端光刻膠封鎖?！保ㄉ鲜鰠⒖迹航鹑诮?，2023.06.06）
很明顯，這又是「國(guó)產(chǎn)替代中一個(gè)很重要的細(xì)分賽道」。究竟什么是光刻膠？在國(guó)產(chǎn)替代中又占據(jù)著什么樣的位置？今天我們就來聊聊這個(gè)新概念～
01光刻膠、光刻與芯片
光刻膠又稱“光致抗蝕劑”，是一種對(duì)光敏感的混合液體。光刻膠可以與光線發(fā)生反應(yīng)，讓芯片材料上出現(xiàn)所需的精密電路圖案，因此被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作，是微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性材料。
是不是感覺比較專業(yè)？非專業(yè)人士聽聽就過了，大家只要知道兩件事就行——
一是，光刻是芯片制造所需要的關(guān)鍵步驟。從最早誕生于電路設(shè)計(jì)師的圖紙中，到送去半導(dǎo)體車間經(jīng)由光刻機(jī)反復(fù)光刻，中間經(jīng)過數(shù)百道工藝的層層打磨，一顆嶄新的芯片才正式誕生，在整個(gè)芯片制造過程中可能需要進(jìn)行數(shù)十次的光刻。光刻工藝成本占到整個(gè)芯片制造工藝大約是35%，耗時(shí)約占整個(gè)芯片生產(chǎn)環(huán)節(jié)的40%-50%。簡(jiǎn)單概括就是，光刻的時(shí)間成本和制造成本都占據(jù)了芯片制造的“大頭”。（數(shù)據(jù)來源：中科院半導(dǎo)體所，2020.11.11）
二是，光刻膠是光刻工藝中不可或缺的核心材料，在半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)中有著重要作用。光刻出的電路圖案越精密，就代表著芯片的性能越好，而光刻膠貫穿半導(dǎo)體光刻工藝中涂膠、曝光+顯影、刻蝕、清洗等主要流程，所以光刻膠的質(zhì)量直接決定了半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量。尤其是近年來半導(dǎo)體制程的提升，對(duì)光刻膠質(zhì)量提出了更高要求，前幾年中國(guó)臺(tái)積電就曾因?yàn)楣饪棠z質(zhì)量問題報(bào)廢了10萬片晶圓。因此，光刻膠又被譽(yù)為“半導(dǎo)體材料皇冠上的明珠”。（數(shù)據(jù)來源：金融界，2023.06.06）
由此我們可以得出兩個(gè)結(jié)論：第一，光刻在芯片的制造過程中至關(guān)重要，而光刻膠是光刻工藝的核心材料，它的質(zhì)量和性能會(huì)直接影響到集成電路制造過程中的質(zhì)量和性能；第二，芯片行業(yè)的快速發(fā)展離不開光刻工藝的發(fā)展，光刻工藝則離不開光刻膠這些關(guān)鍵材料的研發(fā)迭代。（上述參考：招商證券，2021.08.06；證券之星，2021.06.02）
02國(guó)產(chǎn)替代迎來良機(jī)了解了光刻膠的重要性，接下來咱們看看一開始提到的那個(gè)關(guān)鍵詞：國(guó)產(chǎn)替代。
為什么光刻膠行業(yè)的國(guó)產(chǎn)替代迫在眉睫呢？
第一個(gè)原因，目前全球光刻膠市場(chǎng)被日本JSR等五家龍頭企業(yè)所壟斷，它們占據(jù)了全球光刻膠市場(chǎng)87%的份額，日本不僅手握全球七成以上的光刻膠專利，而且還具有完整的光刻膠生產(chǎn)鏈。相比之下，中國(guó)光刻膠的專利儲(chǔ)備量?jī)H占全球光刻膠專利總量的7%。（數(shù)據(jù)來源：國(guó)海證券，2022.08.26；金融界，2023.06.06）
第二個(gè)原因咱們剛剛聊過，光刻膠的質(zhì)量直接決定了半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量，但高端光刻膠市場(chǎng)日本處于絕對(duì)壟斷地位，我國(guó)光刻膠生產(chǎn)主要集中在PCB光刻膠等中低端產(chǎn)品，其中7nm及更先進(jìn)制程光刻膠的研發(fā)基本處于空白階段。（參考來源：國(guó)海證券，2022.08.26）
在這種情況下，光刻膠尤其是高端光刻膠的國(guó)產(chǎn)替代迫在眉睫。國(guó)外斷供風(fēng)險(xiǎn)升級(jí)推動(dòng)中國(guó)半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化率提升，國(guó)內(nèi)企業(yè)積極研發(fā)布局，力爭(zhēng)在高端光刻膠領(lǐng)域突破海外壟斷，這也為國(guó)產(chǎn)替代提供了良機(jī)。據(jù)統(tǒng)計(jì)，在2016-2021年的五年間，全球晶圓制造市場(chǎng)規(guī)模由652億美元提升至1101億美元，CAGR為11.05%，同期中國(guó)晶圓制造市場(chǎng)規(guī)模由49.05億美元提升至115.65億美元，達(dá)到15.36%，行業(yè)增速高于全球。（數(shù)據(jù)來源：太平洋證券，2023.04.18；本文不作個(gè)股推薦）
伴隨晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升，中國(guó)有望承接半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移，感興趣的小伙伴可以多多關(guān)注相關(guān)領(lǐng)域機(jī)會(huì)～
溫馨提示：本資料不作為任何法律文件，資料中的所有信息或所表達(dá)意見不構(gòu)成投資、法律、會(huì)計(jì)或稅務(wù)的最終操作建議，我公司不就資料中的內(nèi)容對(duì)最終操作建議做出任何擔(dān)保。在任何情況下，本公司不對(duì)任何人因使用本資料中的任何內(nèi)容所引致的任何損失負(fù)任何責(zé)任。我國(guó)基金運(yùn)作時(shí)間較短，不能反映股市發(fā)展的所有階段。市場(chǎng)有風(fēng)險(xiǎn)，入市需謹(jǐn)慎。
業(yè)內(nèi)分析稱，“日本此次禁運(yùn)的23種半導(dǎo)體設(shè)備中，熱處理、前道涂膠顯影設(shè)備、清洗、檢測(cè)等設(shè)備均有企業(yè)推出符合市場(chǎng)要求的產(chǎn)品，唯獨(dú)國(guó)產(chǎn)高端光刻膠屬于空白領(lǐng)域，在此背景下，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈正謀求合力突破高端光刻膠封鎖?！保ㄉ鲜鰠⒖迹航鹑诮?，2023.06.06）
很明顯，這又是「國(guó)產(chǎn)替代中一個(gè)很重要的細(xì)分賽道」。究竟什么是光刻膠？在國(guó)產(chǎn)替代中又占據(jù)著什么樣的位置？今天我們就來聊聊這個(gè)新概念～
01光刻膠、光刻與芯片
光刻膠又稱“光致抗蝕劑”，是一種對(duì)光敏感的混合液體。光刻膠可以與光線發(fā)生反應(yīng)，讓芯片材料上出現(xiàn)所需的精密電路圖案，因此被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作，是微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性材料。
是不是感覺比較專業(yè)？非專業(yè)人士聽聽就過了，大家只要知道兩件事就行——
一是，光刻是芯片制造所需要的關(guān)鍵步驟。從最早誕生于電路設(shè)計(jì)師的圖紙中，到送去半導(dǎo)體車間經(jīng)由光刻機(jī)反復(fù)光刻，中間經(jīng)過數(shù)百道工藝的層層打磨，一顆嶄新的芯片才正式誕生，在整個(gè)芯片制造過程中可能需要進(jìn)行數(shù)十次的光刻。光刻工藝成本占到整個(gè)芯片制造工藝大約是35%，耗時(shí)約占整個(gè)芯片生產(chǎn)環(huán)節(jié)的40%-50%。簡(jiǎn)單概括就是，光刻的時(shí)間成本和制造成本都占據(jù)了芯片制造的“大頭”。（數(shù)據(jù)來源：中科院半導(dǎo)體所，2020.11.11）
二是，光刻膠是光刻工藝中不可或缺的核心材料，在半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)中有著重要作用。光刻出的電路圖案越精密，就代表著芯片的性能越好，而光刻膠貫穿半導(dǎo)體光刻工藝中涂膠、曝光+顯影、刻蝕、清洗等主要流程，所以光刻膠的質(zhì)量直接決定了半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量。尤其是近年來半導(dǎo)體制程的提升，對(duì)光刻膠質(zhì)量提出了更高要求，前幾年中國(guó)臺(tái)積電就曾因?yàn)楣饪棠z質(zhì)量問題報(bào)廢了10萬片晶圓。因此，光刻膠又被譽(yù)為“半導(dǎo)體材料皇冠上的明珠”。（數(shù)據(jù)來源：金融界，2023.06.06）
由此我們可以得出兩個(gè)結(jié)論：第一，光刻在芯片的制造過程中至關(guān)重要，而光刻膠是光刻工藝的核心材料，它的質(zhì)量和性能會(huì)直接影響到集成電路制造過程中的質(zhì)量和性能；第二，芯片行業(yè)的快速發(fā)展離不開光刻工藝的發(fā)展，光刻工藝則離不開光刻膠這些關(guān)鍵材料的研發(fā)迭代。（上述參考：招商證券，2021.08.06；證券之星，2021.06.02）
02國(guó)產(chǎn)替代迎來良機(jī)了解了光刻膠的重要性，接下來咱們看看一開始提到的那個(gè)關(guān)鍵詞：國(guó)產(chǎn)替代。
為什么光刻膠行業(yè)的國(guó)產(chǎn)替代迫在眉睫呢？
第一個(gè)原因，目前全球光刻膠市場(chǎng)被日本JSR等五家龍頭企業(yè)所壟斷，它們占據(jù)了全球光刻膠市場(chǎng)87%的份額，日本不僅手握全球七成以上的光刻膠專利，而且還具有完整的光刻膠生產(chǎn)鏈。相比之下，中國(guó)光刻膠的專利儲(chǔ)備量?jī)H占全球光刻膠專利總量的7%。（數(shù)據(jù)來源：國(guó)海證券，2022.08.26；金融界，2023.06.06）
第二個(gè)原因咱們剛剛聊過，光刻膠的質(zhì)量直接決定了半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量，但高端光刻膠市場(chǎng)日本處于絕對(duì)壟斷地位，我國(guó)光刻膠生產(chǎn)主要集中在PCB光刻膠等中低端產(chǎn)品，其中7nm及更先進(jìn)制程光刻膠的研發(fā)基本處于空白階段。（參考來源：國(guó)海證券，2022.08.26）
在這種情況下，光刻膠尤其是高端光刻膠的國(guó)產(chǎn)替代迫在眉睫。國(guó)外斷供風(fēng)險(xiǎn)升級(jí)推動(dòng)中國(guó)半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化率提升，國(guó)內(nèi)企業(yè)積極研發(fā)布局，力爭(zhēng)在高端光刻膠領(lǐng)域突破海外壟斷，這也為國(guó)產(chǎn)替代提供了良機(jī)。據(jù)統(tǒng)計(jì)，在2016-2021年的五年間，全球晶圓制造市場(chǎng)規(guī)模由652億美元提升至1101億美元，CAGR為11.05%，同期中國(guó)晶圓制造市場(chǎng)規(guī)模由49.05億美元提升至115.65億美元，達(dá)到15.36%，行業(yè)增速高于全球。（數(shù)據(jù)來源：太平洋證券，2023.04.18；本文不作個(gè)股推薦）
伴隨晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升，中國(guó)有望承接半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移，感興趣的小伙伴可以多多關(guān)注相關(guān)領(lǐng)域機(jī)會(huì)～
溫馨提示：本資料不作為任何法律文件，資料中的所有信息或所表達(dá)意見不構(gòu)成投資、法律、會(huì)計(jì)或稅務(wù)的最終操作建議，我公司不就資料中的內(nèi)容對(duì)最終操作建議做出任何擔(dān)保。在任何情況下，本公司不對(duì)任何人因使用本資料中的任何內(nèi)容所引致的任何損失負(fù)任何責(zé)任。我國(guó)基金運(yùn)作時(shí)間較短，不能反映股市發(fā)展的所有階段。市場(chǎng)有風(fēng)險(xiǎn)，入市需謹(jǐn)慎。
