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美國(guó)管控起到反效果?中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)能復(fù)蘇,內(nèi)需拉動(dòng)芯片增長(zhǎng)

作者:杰夫視點(diǎn) 來源: 頭條號(hào) 88004/20

美國(guó)對(duì)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)進(jìn)行管控后,盡管在一些高端芯片和材料上,國(guó)內(nèi)廠商的確很難擺脫卡脖子的現(xiàn)實(shí),不過這也讓半導(dǎo)體自主設(shè)計(jì)生產(chǎn)逐漸成為國(guó)內(nèi)目前的主流。目前國(guó)內(nèi)從海外進(jìn)口芯片的數(shù)量和金額都在大幅減少,而使用國(guó)內(nèi)自己生產(chǎn)芯片的數(shù)量則不斷增加。至少在

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美國(guó)對(duì)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)進(jìn)行管控后,盡管在一些高端芯片和材料上,國(guó)內(nèi)廠商的確很難擺脫卡脖子的現(xiàn)實(shí),不過這也讓半導(dǎo)體自主設(shè)計(jì)生產(chǎn)逐漸成為國(guó)內(nèi)目前的主流。目前國(guó)內(nèi)從海外進(jìn)口芯片的數(shù)量和金額都在大幅減少,而使用國(guó)內(nèi)自己生產(chǎn)芯片的數(shù)量則不斷增加。至少在非先進(jìn)工藝的芯片上,我們正在努力做到自給自足。

在第一季度的半導(dǎo)體IC進(jìn)口數(shù)據(jù)上,進(jìn)口量下降至1082億片,年減近23%。這一方面的確是美國(guó)管控嚴(yán)格,使得很多先進(jìn)的IC芯片及設(shè)備無法順利進(jìn)口到國(guó)內(nèi),但另一方面也是因?yàn)閲?guó)內(nèi)廠商盡量采用國(guó)產(chǎn)的IC芯片替代,免得過于依賴海外進(jìn)口而被導(dǎo)致未來卡脖子的情況。而在過去的三月份,國(guó)內(nèi)IC芯片生產(chǎn)總量達(dá)到了294億片,同比增長(zhǎng)了3.1%,而前兩個(gè)月的IC芯片生產(chǎn)量則是有17%的降幅,由此也可以看出國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體的復(fù)蘇跡象。

對(duì)于全球半導(dǎo)體而言,中國(guó)IC芯片的產(chǎn)量是衡量半導(dǎo)體產(chǎn)量的粗略指標(biāo),隨著芯片成為中美科技戰(zhàn)的關(guān)鍵戰(zhàn)場(chǎng),大家顯然都非常關(guān)注中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的變化,而最新的結(jié)果讓市場(chǎng)認(rèn)為中國(guó)芯片的產(chǎn)量正在復(fù)蘇。當(dāng)然除了美國(guó)管控,中國(guó)國(guó)內(nèi)必須要自給自足之外,這也和疫情之后國(guó)內(nèi)生產(chǎn)恢復(fù)正常有關(guān),從一些數(shù)據(jù)來看,在疫情之后國(guó)內(nèi)41個(gè)主要產(chǎn)業(yè)有26個(gè)年增率保持增長(zhǎng)。

目前國(guó)內(nèi)的確將半導(dǎo)體作為一個(gè)突破口,特別是在被西方國(guó)家管控的當(dāng)下,國(guó)內(nèi)無論從上到下,都加大了對(duì)半導(dǎo)體的投入。有消息表示國(guó)內(nèi)正在制定超過1兆人民幣的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)補(bǔ)助計(jì)劃,時(shí)間為五年,主要通過補(bǔ)貼和稅收抵免支持中國(guó)半導(dǎo)體生產(chǎn)和研究。同時(shí)地方基金也在啟動(dòng),據(jù)悉廣東省計(jì)劃推出第二期規(guī)模達(dá)到300億人民幣的半導(dǎo)體基金,期限為17年,主要投資汽車芯片和半導(dǎo)體材料設(shè)備。

另外針對(duì)工藝制程的限制,國(guó)內(nèi)企業(yè)也在想辦法開發(fā)芯片設(shè)計(jì)工具。華為今年初表示和其他公司共同開發(fā)14nm以上半導(dǎo)體的芯片設(shè)計(jì)EDA工具,可在今年通過驗(yàn)證開始使用。不過開發(fā)設(shè)計(jì)工具和生產(chǎn)14nm芯片并不能劃上等號(hào),同時(shí)14nm對(duì)華為以及其他廠商而言顯然不夠先進(jìn)。而受美國(guó)制裁影響,華為去年凈利潤(rùn)年減69%,創(chuàng)歷史最大跌幅。

過去很多年來,國(guó)內(nèi)涌現(xiàn)了大量半導(dǎo)體公司,但是在先進(jìn)工藝上和海外的差距還是很大。目前國(guó)內(nèi)最先進(jìn)的創(chuàng)刻蝕和熱工藝設(shè)備技術(shù)相其實(shí)比較成熟,但是也只適合生產(chǎn)28nm以上的芯片。而在光刻機(jī)部分,我國(guó)還是嚴(yán)重依賴進(jìn)口,哪怕是在成熟工藝方面也會(huì)使用海外的光刻機(jī),因?yàn)檫@才能獲得更好的良率和產(chǎn)能,至于國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)目前說法很多,但真正能實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的也只有可生產(chǎn)90nm工藝芯片的光刻機(jī),而且良率和產(chǎn)能都成問題!所以在先進(jìn)制程的芯片上,我們依然只能進(jìn)口而無法自己生產(chǎn)。

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