近日，日本正式宣布，將限制23項半導體設備出貨，5月正式頒布禁令，7月開始生效。

據該清單顯示，包括3項清洗設備、11項薄膜沉積設備、1項熱處理設備、4項光刻/曝光設備、3項刻蝕設備、1項測試設備均被限制出口。

日本這次可謂全面封鎖，上述設備或卡住覆膜、光刻機膠涂布、光掩膜制造光刻機、蝕刻、清洗、晶圓檢測等前道工序，幾乎涉及了整個生產流程。

在此之前，日本與我國保持著良好的對外貿易關系，對華出口的設備不僅是光刻機，還有KrF光刻膠。

簡言之，在中國半導體的發(fā)展歷程中，日本扮演了重要的角色，這是因為日本尼康、佳能不像荷蘭ASML那樣擁有龐大的光刻機市場，所以中企客戶對他們而言極為重要，但此次日本宣布23項禁令后，無異于向大陸撕破了臉，或徹底放棄中國大陸市場。

且在宣布禁令之前，日本已經選好了退路，首相岸田文雄訪問印度，積極向印度開展半導體相關的友好合，因為有消息稱，印度要打造代替中國的半導體聚集地。

在訪問印度期間，岸田文雄多次強調，印度是日本和整個印太地區(qū)必不可少的合作伙伴，在接下來的7年里，日本將投資近10萬億日元。

且據臺灣《關鍵時刻》披露，拜登正在與荷蘭ASML商討進一步限制光刻機出貨一事，或讓大陸半導體倒退10年。如此一來，不僅是單一光刻設備，ASML全系列DUV光刻機都將會被禁售。

要知道，國產光刻機的水平在90nm制程，中芯國際在2013年的時候可以生產45nm芯片，若真讓大陸代工水平停留在90nm，已經不止倒退10年了。

對此外媒表示，芯片戰(zhàn)結局已經愈發(fā)清晰了，中國芯輸了！日本全面限制光刻機后，ASML的封鎖只會更加嚴格，上海微電子90nm光刻機翻不起多大的浪花。

外媒這一分析不無道理，盡管在梁夢孟松的帶領下，中芯國際的代工水平突飛猛進，從90nm迅速突破至14nm，但7nm及更先進的工藝卻仍未掌握，這還是使用ASML DUV光刻機的結果，若采用國產光刻機，28nm制程都難突破。

難道中國芯真就這樣輸了？無數中企、高校、研究所的努力都白費了嗎？

實際上并非如此，中國芯還未輸，芯片博弈的結局未可知，別忘了中國還有量子芯片。

據悉，我國第一條量子芯片生產線已經搭建完畢，事實證明，量子芯片的制造過程無需使用EUV光刻機，且量子芯片較傳統(tǒng)硅基芯片的性能理論上可以提高百倍、千倍。

因此，量子芯片成為我國繞開高端光刻機的“殺手锏”，若將其發(fā)揚光大，使其能在更多場景應用，那么大陸半導體將有機會徹底擺脫“卡脖子”難題。

綜上所述，我國雖然掌握了量子芯片技術，但從整體水平上來看仍然落后美國，抓緊關鍵技術的研發(fā)，攻克核心技術難題，才是當下首要目標。

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