針對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，日本出手了！

根據(jù)綜合媒體證實(shí)，日本某光刻膠大廠已經(jīng)執(zhí)行美國(guó)“實(shí)體清單”的限制要求，對(duì)中國(guó)某家晶圓廠斷供了KrF光刻膠。相對(duì)于光刻膠，大家可能會(huì)對(duì)光刻膠這個(gè)詞有些陌生，沒關(guān)系，接下來(lái)我先給大家科普一下光刻膠以及這玩意對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要性。

光刻膠，專業(yè)名稱光致抗蝕劑，通過紫外光、X射線等的照射下，所溶后產(chǎn)生的“耐蝕劑刻薄膜材料”。在芯片制造的過程中，有接近一半的時(shí)間是花費(fèi)在光刻上，該過程不僅需要用到光刻機(jī)，還需要在硅晶片上添加一層光刻膠。

這樣的做法可以提升芯片的光刻的精度，等于光刻膠的質(zhì)量越高，光刻的精度大概率越高。換而言之，即使你有最先進(jìn)的光刻機(jī)，但沒有好的光刻膠，光刻的精度也不會(huì)很高，最終制造出來(lái)的芯片也不會(huì)成為精度很高的高端芯片?；诖?，光刻膠對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要性，已經(jīng)不言而喻了！

那么問題來(lái)了，日本光刻膠大廠對(duì)我國(guó)斷供光刻膠又會(huì)產(chǎn)生什么影響？通過剛才的介紹，相信大家已經(jīng)認(rèn)知到光刻膠的重要性，但不幸的是，因?yàn)楣饪棠z是芯片制造的核心耗材，技術(shù)壁壘很高，但我國(guó)在相關(guān)領(lǐng)域卻一直處于劣勢(shì)地位。

因?yàn)檎w技術(shù)水平不行，在光刻膠領(lǐng)域我們只能高度依賴進(jìn)口，但麻煩的是，光刻膠行業(yè)集中度很高，全世界五大廠商占據(jù)了全球87%的市場(chǎng)，其中日本的幾家光刻膠公司市場(chǎng)份額高達(dá)72%，至于KrF以及ArF等高級(jí)別光刻膠，幾乎完全被美日企業(yè)壟斷！

另外，還有一個(gè)很重要的問題，光刻膠有一個(gè)致命缺點(diǎn)，就是無(wú)法長(zhǎng)時(shí)間保存。一般情況下，保存時(shí)間在3個(gè)月到1年之內(nèi)，大部分都需要在半年內(nèi)使用，這種材料特性就注定了我們無(wú)法大量囤貨。

這就意味著，現(xiàn)在美日兩國(guó)開始對(duì)我們斷供高端光刻膠，按照現(xiàn)有庫(kù)存，最多一年后我們就會(huì)面臨“無(wú)光刻膠”可用的情況，所以在1年時(shí)間內(nèi)，我們的國(guó)產(chǎn)光刻膠必須殺出重圍，實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代。

最后一個(gè)問題，眾多國(guó)產(chǎn)光刻膠廠家中，誰(shuí)能脫穎而出擔(dān)負(fù)重任？當(dāng)前國(guó)內(nèi)一直在布局技術(shù)突破的廠商有上海新陽(yáng)、南大光電、蘇州瑞紅、北京科華以及徐州博康。

這幾家廠商中，上海新陽(yáng)是上市企業(yè)，實(shí)力雄厚，半導(dǎo)體領(lǐng)域的人才眾多，具備殺出重圍的可能性；另外，北京科華不容小覷，它是上市企業(yè)彤程新材旗下的控股子公司，并且還是一家專門研究光刻膠的廠商，我國(guó)第一條高端KrF光刻膠生產(chǎn)線、國(guó)內(nèi)首支ArF干法光刻膠樣品北京科華建設(shè)與開發(fā)出來(lái)的。

綜上所述，我個(gè)人認(rèn)為，哪怕美日兩國(guó)對(duì)我國(guó)光刻膠領(lǐng)域?qū)嵤┤嬷撇貌呗?，但原本我們有一定底子，具備抗風(fēng)險(xiǎn)能力。因此，這場(chǎng)危機(jī)或許也是一個(gè)機(jī)遇，在外部巨大的壓力下，我國(guó)光刻膠廠商背水一戰(zhàn)，最終一定能夠突破他們的封鎖。