日前，有外媒報道稱，荷蘭貿(mào)易部部長最近在致荷蘭議會的一封信中宣布，基于國家安全考慮，荷蘭政府將在夏天之前對其芯片出口實施新的限制。這項措施帶來的一個顯著改變就是，ASML光刻機的出口限制從EUV光刻機進一步下探了DUV光刻機，以及先進的沉積設備。

ASML在當?shù)貢r間3月8日的聲明中提到，將需要申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式DUV系統(tǒng)，預計這些管制措施不會對該公司已發(fā)布的2023年財務展望以及于去年11月投資者日宣布的長期展望產(chǎn)生重大性影響。

堵死國內先進制程之路

從ASML的聲明中可以看出，并非是所有的DUV光刻機設備都將被禁運，主要是最先進的DUV光刻機設備。結合ASML官網(wǎng)的設備情況來看，限制范圍大致是TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i以及后續(xù)推出的更高端的DUV設備。

那么，現(xiàn)階段能夠購買到的設備是什么？答案是TWINSCAN NXT：1980Di。介紹信息顯示，這款光刻機采用193nm光源，廣泛用于40nm或者38nm左右的成熟制程。業(yè)內人士表示，不能說TWINSCAN NXT：1980Di不能用于28nm、14nm，或者更先進的7nm。但是這樣做的代價是高昂的，光刻步驟更加復雜，良率會比較低，量產(chǎn)芯片的成本完全不能與基于更先進的DUV光刻機或者EUV光刻機搭建的產(chǎn)線相比。

先進DUV光刻機在先進制程方面的價值是巨大的。此前，臺積電林本堅表示，該公司已經(jīng)利用DUV光刻機量產(chǎn)了7nm，未來還將繼續(xù)通過DUV量產(chǎn)5nm。而且，此前的文章中我們也介紹過英特爾當年量產(chǎn)10nm，借助的就是雙機臺和DUV光刻機。

而我們也看到，在美光最新的DRAM技術中，依然也是在繼續(xù)采用DUV光刻機。2022年11月2日，美光宣布其采用全球最先進技術節(jié)點的1β DRAM產(chǎn)品已開始向部分智能手機制造商和芯片平臺合作伙伴送樣以進行驗證，并做好了量產(chǎn)準備。在這項創(chuàng)新的DRAM量產(chǎn)技術中，美光實現(xiàn)了領先行業(yè)的低延遲、低功耗和高性能。而在實現(xiàn)的過程中，美光通過多重曝光光刻技術加上DUV光刻機便實現(xiàn)了1β DRAM制程，成功繞開了EUV光刻機。

因此，從計算芯片和DRAM量產(chǎn)來看，先進DUV光刻機的價值是巨大的。

荷蘭之所以在此時將政策進一步收緊，離不開美國政府持續(xù)的游說。在雙方此前的多輪溝通中，荷蘭實際上都在堅持自己的原則。荷蘭外貿(mào)與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾在2022年11月22日曾表示，荷蘭不會照搬美國對華的芯片管制政策，“重要的是我們要捍衛(wèi)自己的利益——我們的國家安全，以及我們的經(jīng)濟利益?！备鶕?jù)此前的財報數(shù)據(jù)，中國大陸是市場是ASML第三大的市場，營業(yè)收入達27億歐元，約占其2021年全球營業(yè)額的14.7%。

為了讓荷蘭對大陸禁售高端光刻機，美國已經(jīng)游說了多年。目前來看，荷蘭還是選擇了順從。分析師認為，在兩國的談判中，定然涉及到了美國當前正在大力推進的芯片本土制造。此前有報道稱，美國芯片法案的目標是500億美元的補貼，帶動2000億美元的產(chǎn)業(yè)投資，吸引了臺積電、三星、英特爾、格芯和美光等大廠紛紛投資，將會對光刻機有比較大的需求。因此，ASML此舉無疑是一種市場換市場的行為。

國產(chǎn)設備唯一途可走

近些年，我國在整個集成電路制造領域，封裝環(huán)節(jié)算是較為成熟的環(huán)節(jié)，在設備和制造方面長期處于中低端水平，甚至是未破冰的狀態(tài)，僅在個別點上達到了國際領先水平。

自2020年開始，在國際形勢風云變幻的影響下，在國產(chǎn)化進程的帶動下，我國在半導體設備方面取得了長足的進展。根據(jù)中國電子專用設備工業(yè)協(xié)會的統(tǒng)計數(shù)據(jù)，2018年國產(chǎn)半導體設備在集成電路以及LED、面板、光伏和分立器件設備方面的自給率為12%。到了2020年，這一比例提升到了16.8%。2021年時，達到27.4%。公開數(shù)據(jù)顯示，在晶圓代工領域，2022年1-7月份，國內規(guī)?；_招標的五家晶圓廠的半導體設備中，國產(chǎn)化率高達36%。在這個垂直領域內，2020年時公開競標項目的國產(chǎn)化率為7.4%，兩年不到的時間翻了近5倍。

有外媒引用分析師的預測數(shù)據(jù)稱，預計到2025年中國國產(chǎn)半導體設備在上述關鍵領域的自給率將達到50%。

隨著荷蘭在政策層面倒向美國一側，未來國產(chǎn)半導體設備的前進腳步將更加堅定，將完全摒棄搖擺思維，全心投入到全產(chǎn)業(yè)鏈自研中。經(jīng)歷過去幾年的發(fā)展，國產(chǎn)半導體設備廠商已經(jīng)涌現(xiàn)出一些具有代表性的廠商。比如在備受關注的光刻機領域，已經(jīng)出現(xiàn)上海微電子這家初具規(guī)模的國產(chǎn)光刻機廠商。

上海微電子成立于2001年，前身是成立于1928年的國立中央研究院工程研究所，是我國最早的工學研究機構之一。一開始，上海微電子是在封裝用光刻機領域引起關注。該公司于2009年開發(fā)SSB500系列步進重復光刻機，2015年在封裝領域市占率已達40%。在晶圓代工領域，上海微電子SSX600系列步進掃描投影光刻機已經(jīng)能夠滿足280nm、110nm和90nm光刻需求，可用于8吋晶圓和12吋晶圓的規(guī)模量產(chǎn)。

目前，國內半導體產(chǎn)業(yè)都在密切關注上海微電子下一代光刻機的交付。根據(jù)此前多方的爆料消息，這款光刻機為一款28nm制程的光刻機。

從產(chǎn)品組成來看，光刻機主要由測量臺與曝光臺（雙工件臺）、激光器、光速矯正器、能量控制器、光速形狀設置、遮光器、能量探測器、掩膜版、掩膜臺、物鏡、內部封閉框架和減震器等11個模塊組成。在上游配套方面，國內華卓精科在雙工件臺方面已經(jīng)打破壟斷，成為全球第二家掌握這項技術的公司；科益虹源也在光刻機所需高能準分子激光器方面取得突破，已完成6khz、60w主流ArF光刻機光源制造；奧普光學在光源方面已經(jīng)突破到90nm光刻機，等等。

除了光刻機方面。北方華創(chuàng)在刻蝕、沉積、清洗、檢測等方面已經(jīng)發(fā)展成為平臺型企業(yè)；中微公司用于集成電路、LED芯片等微觀器件領域的等離子體刻蝕設備、深硅刻蝕設備和MOCVD設備已經(jīng)打入到頭部企業(yè)的尖端供應鏈；盛美上海的半導體清洗設備、半導體電鍍設備和先進封裝濕法設備等也已經(jīng)用于28nm及以下的工藝平臺。

倪光南院士曾經(jīng)說過，半導體芯片是一個產(chǎn)業(yè)鏈，你要替掉進口的、替掉壟斷的，才能在市場上站得住腳。隨著國際形勢越來越嚴峻，國產(chǎn)半導體設備廠商正在突破層層枷鎖，塑造全國產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈。

寫在最后

當EUV光刻機禁運時，我們抱有的幻想是，我們可以買到先進的DUV設備，靠著雙工臺和多重曝光的技術也能夠打入到先進制程領域。如今先進的DUV光刻機也禁運了，我們不能說我們還能買尼康和佳能的設備，還有ASML的TWINSCAN NXT：1980Di可以用。這種時候，我們要摒棄一切幻想，國產(chǎn)替代和國產(chǎn)創(chuàng)新已經(jīng)成為新常態(tài)。當國產(chǎn)生態(tài)成為閉環(huán)，國產(chǎn)芯片就真的有希望了。